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　　7月4日下午，美国密西根大学Kai Sun博士、英国西苏格兰大学Richard Yongqing Fu博士来物理电子学院进行学术访问交流，分别作“Recent Progress in Investigating the Diluted Magnetic Semiconductor by Electron Microscope”和“Advances in Plasma Enhanced or Assisted Deposition of Optical Thin Films and Nanostructures”的报告。报告由祖小涛教授主持。

　　Kai Sun博士介绍了电子显微分析技术在稀磁半导体研究上的应用和最新进展，介绍了密西根大学最近组装的分辨率达0.5埃的透射电子显微镜情况，以及将其应用于新型稀磁半导体材料研究的方法和思路，拟从原子尺度上研究稀磁半导体材料中杂质原子的占位情况。

　　Richard Yongqing Fu博士详细介绍了西苏格兰大学薄膜中心的各种先进的薄膜制备设备和先进技术，介绍了将这些技术应用于制备各种形态的纳米结构、工程应用薄膜的研究以及工业生产，同时展示了各种新方法新技术制备出的新奇的多层薄膜结构，及其在光学工程等领域的应用。

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　　Kai Sun博士毕业于大连理工大学，之后在瑞典斯德哥摩尔大学阿累尼乌斯实验室和美国芝加哥诺伊大学做研究助理员，2003年以后一直在密西根大学电子微束分析实验室工作。具有20年透射电子显微分析经验，对各种材料包括金属和合金、绝缘材料、高分子材料，表面涂层，多层膜，生物材料等的电子显微镜分析有着丰富的经验。已发表150篇SCI论文，50多篇会议论文，并出版了2本专著，同时担任30多种国际期刊的审稿人。

　　Richard Yongqing Fu 博士目前是英国西苏格兰大学薄膜中心的Reader，2011年以前在英国Heriot-Watt大学机械工程系任讲师。Fu博士毕业于新加坡南洋理工大学，之后分别在新加坡-马萨诸塞州联合技术学院和英国剑桥大学做Research Fellow和副研究员。他在应用物理、微机械、MEMS、薄膜、表面涂层、传感器和微流体、形状记忆/压电薄膜、智能材料和纳米技术领域具有丰富的研究经验。已发表200多篇SCI论文，H因子29，出版2本专著和15个Book Chapter。他同时担任4个国际学术刊物的副主编，6个国际会议的组委会成员，30多个国际刊物的审稿人。