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美国密歇根大学孙凯研究员做客物电论坛

文：陈科羽图：陈科羽来源：原物理电子学院时间：2015-11-23 3427

　　近日，美国密歇根大学孙凯研究员应物理电子学院邀请来校进行学术交流，作题为“In-situ TEM Study of Structure & Dynamics of Metal Catalysts”的学术报告。报告由祖小涛教授主持。来自各学院的老师、本科生、研究生以及外国留学生参加报告会。

　　孙凯研究员介绍了环境原位透射电子显微镜的种类、发展历程以及已经研制成功的环境反应系统，重点介绍了环境透射电子显微镜在纳米催化材料研究中的应用。他通过多个实例，讲解展示出环境透射电子显微镜在研究材料催化反应机理中的重要性。此外，他在报告中简要介绍了四维超快电子显微技术的最新进展，并对从事相关领域研究的与会老师的工作提出建议，表达了相关合作意向。

　　报告的科技前瞻性令与会老师和同学耳目一新，对报告内容表现出极大的兴趣，与孙凯研究员展开了热烈讨论。他细致地回答与会人员提出的各种问题，欢迎学校老师和同学到他的研究组访问学习，深入开展合作交流。

　　孙凯研究员毕业于大连理工大学，之后在瑞典斯德哥摩尔大学阿累尼乌斯实验室和美国芝加哥诺伊大学做助理研究员，2003年以后一直在密歇根大学电子微束分析实验室工作。他具有20年透射电子显微分析经验，对各种材料包括金属和合金、绝缘材料、高分子材料，表面涂层，多层膜，生物材料等的电子显微镜分析有着丰富的经验。已在Science, Nano Letters, Advanced Materials等期刊发表190篇SCI论文，50多篇会议论文，并出版2本专著，同时担任30多种国际期刊的审稿人。