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近日，电子科技大学微固学院教授李雪松在《Advanced Materials》发表题目为《Synthesis of Graphene Films on Copper Foils by Chemical Vapor Deposition》的论文。李雪松教授为该论文的第一作者和共同通讯作者，电子科技大学为第一单位。这也是我校首次在该杂志作为第一作者及第一单位发表论文。
基于李雪松教授在石墨烯领域的突出成绩，《Advanced Materials》邀请他与美国德州仪器Colombo博士及韩国蔚山国立科学与技术研究院Ruoff教授共同撰写了这篇关于石墨烯薄膜制备的综述性论文。该论文回顾了铜基底化学气相沉积（CVD）法制备大面积石墨烯薄膜的发展进程，主要包括相关的各种CVD技术、石墨烯生长机制与动力学、制备大面积石墨烯单晶的方法、石墨烯的转移技术等，并针对该技术目前所面临的挑战及前景进行了讨论。
石墨烯在铜基底表面生长示意图（左）和在铜表面的石墨烯的扫描电子显微镜图片（右）
李雪松，清华大学本科、硕士，美国伦斯勒理工学院博士，美国德州大学奥斯汀分校博士后，美国耶鲁大学副研究员，2015年9月加入我校微固学院张万里、李言荣教授“功能薄膜与器件”研究团队。李雪松多年来一直从事石墨烯薄膜制备与应用的研究，并取得了一系列原创性的成果，包括发明并发展了铜基底CVD法制备大面积石墨烯薄膜、提出并明确石墨烯生长机制、发明了制备大面积石墨烯单晶方法等，相关成果发表在《Science》《Nano Lett.》《JACS》等期刊，为大面积石墨烯薄膜的研究及工业化制备奠定了基础。其中，作为第一作者发表在2009年《Science》上关于大面积石墨烯薄膜制备的研究成果被《Science》选为当年重大科技突破之一，该论文迄今为止已被SCI引用4000多次。
《Advanced Materials》是工程与计算大学科 、材料与化学大领域的顶尖期刊。在国际材料领域科研界上享誉盛名，《Advanced Materials》在google对工程与计算科学大学科领域所有杂志中排名第一，在材料与化学大学科领域所有杂志中排名第四（由于第二第三均是综述类杂志，所以《Advanced Materials》实际为第二），影响因子为17.49。
相关连接：
http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.201504760/full
编辑：一戈 / 审核：一戈 / 发布：一戈
